光清洗、UV/03是超声波清洗技术的润饰手段之一。请放心与我们商量。

 

与光清洗的相遇 (柴野)

光清洗的最初引进，是为了用于光掩模的最终精密清洗及激光光盘纳米级有机物的去除和表面改质。
25年前，还有可用石英管容易地制作荧光管的工匠，好像是当然的、随意地制造各种各样的UV/O3清洗器。现在想起来，那真是浪费了多么宝贵的时间。这么说对那些工匠们真是抱歉！

曾经有这样的时代，某照明机器的大型制造厂商曾开展过一种出借业务，将网眼传送带通过大型UV管下，将油污的机械加工品放在传送带上进行光清洗。使用时简直会像烧烤一样喷出浓烟。我记得曾经有一个人感叹如果这就是叫做光清洗的有用手段的话，肯定是没有市场的。。

此后，除了液晶的一部分以外，光清洗表面上从市场上消失了，进入仅作为企业秘密将此使用方法藏起来内部使用的时代。当然，现在在此方面积累了相当技术的优秀生产厂商在日本仍然存在。本公司在超声波清洗的最终阶段将此光清洗编入，进行表面改质及用于精密清洗保证。当然，也可单独作为塑料的涂装与转印前的表面改质使用。

光清洗的原理

用185nm与254nm紫外线照射固体表面，可将阻碍表面附着力的有机化合物污染层去除并间接提高附着力，同时提高品质的稳定性与成品率。因对无机物无效，所以事先应采用超声波清洗等方法将表面无机物去除。因为可在干燥工序及在大气中处理，同时具有UV改质和UV清洗两重効果，对对象产品的损伤较小，因此非常易于利用。目前正在开发可实现稳定的、没有浪费和勉强的高品质清洗能力的，可发挥较高表面改质能力的各种类型的紫外线灯。

可在VEGA最终阶段设置。

真空干燥技术是超声波清洗技术者必须掌握的技术请放心与我们商量。

 

真空干燥

将电子部品用水超声波清洗或超声波去毛刺清洗后，先采用吹风方式除水，然后进行真空干燥。
真空干燥的目的，是为了保证电子部品表面没有水分附着，将部品从塑料表面层多少存在的吸水状态恢复到平常室内保管时的吸水状态。
如果说完全干燥的意思是“将水分从表面完全去除”的话，真空干燥又进一步考虑塑料自身的含水量。
如果从关于包含线圈的继电器的完全水清洗的实绩来看，根据真空干燥的设定方式，即使和在检查室平均湿度下保管时相比，塑料及粘接剂等物体中含有的水分也可减少。
笔者将其称为“过干燥”。
干燥后返回室内，检查重量変化，一边反复进行吸湿、放湿，就可以知道重量変化稳定的状态。
考虑到真空干燥条件是企业的关键技术，因此在此处省略。但因为大多情报不公开，初次进行真空干燥时感到困惑的客户很多。
这种时候，请务必向本公司咨询。
另外，目前真空干燥时有热能供给马虎的倾向，因为即使抽真空也不会使潜熱大幅降低，因此应切实予以关注。
不管怎样，我们认为设计应与目的相符，不要出现过剩设计的真空干燥。